FIB後処理用イオンミリング装置ナノミル Model1040

NanoMillは、集束イオンビーム（FIB）加工後の処理に使用します。FIBで作製した試料は、表層のアモルファス化やガリウムイオンの注入が発生することもあり、このようなダメージ層の除去に最適な装置です。

イオン源	静電レンズと組み合わせたフィラメントベースのイオン源
ビーム径	約1μm
ビームエネルギー	50eV～2.0keV
ビーム電流密度	最大8mA/cm2 ファラデーカップにより1pA～2,000pAのビーム電流を測定
試料ステージ	ロードロック機構により10秒以内に試料の交換が可能
ミリング角度	0°～±10°
イメージング	SED（二次電子検出器）を使用したイメージング視野3mm×3mm 試料を観察しながらミリング位置をピンポイントで設定

アルゴンイオン研磨装置 PIPSⅡ

日常的な材料から、最先端材料まであらゆる状況で最高の試料作製を可能にし、操作はタッチパネルによるGUI方式を採用し、レシピ機能等も搭載され驚くほど迅速・容易に行えます。

イオン銃	低エネルギー集束電極　ペニング形イオン銃2式
試料サイズ	3mm
試料回転	1～6rpm まで可変
ステージの温度調整	（-120℃～+25℃）
薄膜試料作製	Digital Micrographでの画像取り込み

試料面上にセットされた遮蔽板にイオンビームを垂直に照射し、イオン照射を受けエッチングされる領域と、遮蔽板で遮断される領域の境界に沿って断面を形成させる試料作製装置です。操作パネルにて試料加工状態を観察できます。

イオン加速電圧	2 ～ 6kV
イオンビーム径半値幅	500μm（加速電圧：6kV、試料：Si）
ミリングスピード	100μm/H以上（2時間の平均値、加速電圧：6kV、試料：Si、エッジ距離：100μm）
最大搭載試料サイズ	幅11mm×長さ10mm×厚さ2mm

常温・凍結切片作製用

ウルトラミクロトームは、光学顕微鏡（LM）、電子顕微鏡（EM）、および原子間力顕微鏡（AFM）の観察で要求される高品質な超薄切片の作製、高い面精度の断面作製に活用できます。

ワイヤー間隔サイズ	60mm ワイヤー切断安全スイッチ実装
ワイヤー種類	ワイヤー径：φ100～300μm ダイヤモンド粒径：20～60μm
試料ホルダー	ラックアンドピニオン標準装備
試料台	セラミックφ30mmプレート
推奨サンプルサイズ	30 × 30 × 10 mm以下
電圧	220V、AC：50～60Hz 標準付属品にトランスが付きます。100V電源環境下でも使用できます。

＜高真空モード＞
二次電子像（E.T検出器）^＊1
反射電子像（組成、凸凹、立体像　半導体検出器）

＜低真空モード＞
反射電子像（組成、凸凹、立体像　半導体検出器）
＊1 E.T : Everhart Thomley

加速電圧	5、10、15kV（GUIより3段切替）二次電子像（5、10、15kV選択）反射電子像（10kV、15kV選択）
試料ホルダー	25mm∅ × 44mmh 試料ホルダー（WD10〜30mm用） 70mm∅×7mmh 試料ホルダー（WD10〜56mm用）
最大試料サイズ	大きさ最大70mm∅、高さ最大50mm

高純度炭素繊維使用
コード時間：1.95秒
プラズマ放電時間：15秒

コンパクトな設計で狭い実験室にも設置可能な卓上研磨機です。
小型試料の鏡面研磨やTEM用薄片の準備研磨に適しております。

試料研磨ホイール径 10,15,20mmφ
試料研磨ホイール回転速度 0～600rpm　連続可変
試料研磨加重 0～40g　連続可変
試料台回転速度 10rpm
初期試料厚さ 200μm以下
自動停止感度 1μｍ

イオン加速電圧	1〜8kV
傾斜角	最大±6°（0.1°ステップ）
ビーム径	500μm（FWHM）
エッチングレート	5μm/min（加速電圧：8kV、Si換算）
使用ガス	アルゴンガス
試料サイズ	2.8mm（長さ）×0.5mm（幅）×0.1mm（厚さ）
圧力測定	ぺニング真空計
主排気装置	ターボ分子ポンプ
CCDカメラ	内蔵
寸法・質量	本体 500mm（W）×600mm（D）×542mm（H）、63kg ロータリーポンプ 150mm（W）×427mm（D）×230.5mm（H）、16kg 液晶ディスプレイ 326mm（W）×173mm（D）×380mm（H）、3.7kg